اساس روشهای ساخت لایه های نازک بر دو مبنای فیزیکی و شیمیایی استوار است که روش های عمده لایه نشانی، برپایه این روش ها دسته بندی می شوند. در هر روش، کیفیت و شرایط لایه نازک متفاوت است که بسته به نوع کاربرد لایه نازک و شرایط مورد نظر، روش های مختلف مورد استفاده قرار می گیرد. از کاربرد های مهم لایه های نازک می توان به استفاده از این نانوساختارها در ساخت ترانزیستورهای لایه نازک،GMR وسلول های خورشیدی اشاره کرد. جهت آنالیز و بررسی کیفیت و ضخامت لایه های نازک، روشهای طیف شناسی الکترون و یون شامل روش طیف شناسی فوتوالکترون اشعه ایکس(XPS)، الکترون اوژه(AES) و طیف شناسی جرمی یون ثانویه(SIMS) مورد استفاده قرار می گیرد.
فهرست مطالب:
مقدمه
روش شیمیایی CVD
انواع روش های CVD
روش CVC
لایه نشانی به روش کنوپاش یا اسپاترینگ
رسوب دهی لیزری پالسی
لایه نشانی پرتو مولکولی
لایه نشانی به روش فیزیکی PVD
انواع روش های PVD
تبخیر حرارتی مبتنی بر مقاومت الکتریکی
تبخیر باریکه الکترونی
واکنش های شیمیایی در سنتزهای نانو
واکنش های رسوبی
فرآیند آب کافت
لایه نشانی در فاز مایع
سل ژل (Sol Gel)
جدول مقایسه روش های گفته شده
پاورپوینت خوب با عنوان روش های لایه نشانی برای ساخت ادوات الکترونیکی در 16 اسلاید